XXVIII симпозиум «Нанофизика и наноэлектроника»
Каталог Фоторезист Электрорезист Позитив Негатив ArF & Krf Dry Imaging ArF immersion EUV Multilayer Hardmask l-line KrF УФ-адгезивы Адгезивы Мономеры Полимеры ULSI — химия Контакты О компании Сферы применения Качество [email protected] +7 (831) 437-84-47 Заказать звонок Фоторезист Электрорезист Позитив Негатив ArF & Krf Dry Imaging ArF immersion EUV Multilayer Hardmask l-line KrF УФ-адгезивы Адгезивы Мономеры Полимеры ULSI - химия Фоторезист Подробнее УФ Адгезивы Современные технологии достигли такого уровн
Сферы применения Полимеры Мономеры Фоторезист УФ-адгезивы О компании Мы профессиональная и увлеченная команда, которая каждый день работает над созданием инновационных, наукоемких технологий. Наша основная специализация – производство олигокарбонатметакрилата (ОКМ-2) и УФ-отверждаемых клеев, фоторезистивных композиций для DUV фотолитографии и электронной литографии подтверждено патентом RU 2 692 678 C1 Фоторезистивная композиция высокочувствительного позитивного электронорезиста.
Также мы изучаем возможности применения технологий искусственного интеллекта в нашем производстве и работаем над программно-аппаратными решениями в этой области.
XXVIII симпозиум «Нанофизика и наноэлектроника»